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東京大学、中性子小角散乱法を用いた多成分系ナノ構造解析における誤差評価手法を開発

東京大学、ナノ構造解析の誤差評価手法を開発

公開日: 2024年12月17日 10:00

東京大学は、多成分系ナノ構造解析における誤差評価手法を開発しました。この手法は、「中性子小角散乱法」という手法を用いてナノサイズの物質の構造を解析する際に、測定結果に含まれる誤差を正確に評価することを可能にします。

中性子小角散乱法とは?

中性子小角散乱法は、物質に中性子を照射して散乱された中性子の分布を測定することで、物質の構造に関する情報を取得する手法です。ナノサイズの物質の構造解析に広く用いられています。

誤差評価の重要性

ナノ構造解析では、測定結果の誤差を正確に評価することが重要です。誤差が大きいと、解析結果の信頼性が低下し、物質の構造を正確に把握できない可能性があります。

開発された誤差評価手法

東京大学が開発した誤差評価手法は、測定データと理論モデルに基づいて、誤差の分布を評価します。この手法では、測定データのばらつきや理論モデルの不確定性を考慮に入れています。

この成果の意義

この誤差評価手法により、ナノ構造解析における誤差を正確に評価できるようになります。これにより、測定結果の信頼性が向上し、物質の構造をより正確に把握することができます。また、この手法は、ナノサイズの物質の機能性や物性に関する研究にも役立てられることが期待されています。

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