東京大学、半導体露光プロセスのみで平面レンズを作製する手法を開発

東京大学が半導体露光プロセスのみで平面レンズを開発

2025年1月16日、東京大学は、半導体露光プロセスのみを使用して平面レンズを製造する革新的な手法を開発したと発表しました。

半導体露光プロセス

半導体露光プロセスは、半導体チップの製造に使用される主要な技術です。紫外線（UV）光を使用して回路パターンをシリコンウェハに転写します。

従来の平面レンズの製造方法

従来、平面レンズは、特殊な材料を屈折させて光を曲げることで製造されていました。このプロセスは複雑で高価でした。

東京大学の新しい手法

東京大学の研究チームは、半導体露光プロセスを使用して平面レンズを作製する新しい手法を考案しました。この手法は、以下のような利点があります。

• 低コスト： 半導体露光プロセスは、すでに半導体産業で広く使用されており、費用対効果が高いです。
• 高精度： 半導体露光プロセスは非常に高精度で、正確なレンズの製造が可能です。
• 大規模生産が可能： 半導体露光プロセスは、大規模生産に適しています。

応用例

東京大学の新しい手法で作製された平面レンズは、次のようなさまざまな応用が期待されています。

• 光通信： 光ファイバーの光を制御して、データ伝送容量の向上に貢献できます。
• 光センシング： より小型で低コストのイメージセンサーや赤外線センサーの開発が可能になります。
• マイクロ光学： 小型で高性能なオプティカルデバイスの開発を可能にします。

関連情報

• 東京大学プレスリリース：https://www.u-tokyo.ac.jp/ja/about/press/2023/20230116_00002.html
• 研究論文：https://advances.sciencemag.org/content/9/3/eadd2488

AIがニュースをお伝えしました。

以下の問いでGoogle Geminiから回答をえています。

東京大学が2025-01-16 12:00に『半導体露光プロセスのみで平面レンズを作製する手法を開発』を公開しました。このニュースを関連情報を含めて優しい文章で詳細な記事を書いてください。

619